发明名称 |
全光纤型N×N光开关及制作方法 |
摘要 |
本发明涉及一种全光纤型高速N×N光开关及制作方法,属于光通信领域。其特征在于它输入光纤层、输出光纤层和调制层构成,调制层位于输入光纤层和输出光纤层的重合部位,输入光纤层和输出光纤层之间夹角小于8°,中间添加一层折射率介于1.4-1.5,厚度为8-12um的聚合物层。输入光纤层和输出光纤层的光纤均粘结在V型槽陈列上,光纤直接作为输入和输出的耦合通道。采用化学机械抛光的技术和硅微机械加工工艺,可精确控制工艺,达到精确定位,提高输出和输入的耦合效率。本发明可用于大规模、高速全光交换。 |
申请公布号 |
CN1540374A |
申请公布日期 |
2004.10.27 |
申请号 |
CN200310108350.1 |
申请日期 |
2003.10.31 |
申请人 |
中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
发明人 |
吴亚明;屈红昌 |
分类号 |
G02B6/125;G02B6/28;H04B10/02 |
主分类号 |
G02B6/125 |
代理机构 |
上海智信专利代理有限公司 |
代理人 |
潘振甦 |
主权项 |
1.一种全光纤型的N×N光开关,它由输入光纤层、输出光纤层和光调制层构成。其特征在于光调制层位于输入光纤层和输出光纤层的重合部位;输入光纤层和输出光纤层的光纤均粘结在V型槽陈列上,光纤直接作为输入和输出的耦合通道。 |
地址 |
200050上海市长宁区长宁路865号 |