发明名称 |
Verfahren und Vorrichtung zur Abscheidung dünner Schichten |
摘要 |
Durch die Erfindung ist eine Abscheidungsvorrichtung geschaffen, die eine deutliche Verringerung des Gasgesamtverbrauchs, eine Vereinfachung des Gesamtaufbaus und eine Kostensenkung der Vorrichtung selbst dann ermöglicht, wenn Gas in mehrere Dünnfilm-Herstellräume (20a, 20b) eingespeist wird. Die Vorrichtung verfügt über mehrere Dünnfilm-Herstellräume (20) zum Herstellen jeweils desselben Dünnfilms. In jedem dieser Dünnfilm-Herstellräume sind Quellengas-Zuführöffnungen (10) vorhanden, durch die mindestens ein Quellengas zugeführt werden kann. Aus mindestens einem (20a) der mehreren Dünnfilm-Herstellräume kann ein Auslassgas durch einen Auslassgas-Strömungspfad (14) in mindestens einen anderen (20b) derselben eingespeist werden. In den erstgenannten Dünnfilm-Herstellraum (20a) wird ein Verdünnungsgas eingespeist, und das Auslassgas wird von einem nach außen führenden Auslassstutzen (9) des anderen Dünnfilm-Herstellraums(20b) nach außen ausgelassen.
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申请公布号 |
DE102004013626(A1) |
申请公布日期 |
2004.10.21 |
申请号 |
DE200410013626 |
申请日期 |
2004.03.19 |
申请人 |
SHARP K.K., OSAKA |
发明人 |
KISHIMOTO, KATSUSHI;HUKUOKA, YUSUKE;SHIMIZU, AKIRA;NOMOTO, KATSUHIKO |
分类号 |
H01L21/205;C23C16/44;C23C16/455;(IPC1-7):C23C16/455 |
主分类号 |
H01L21/205 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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