发明名称 Verfahren und Vorrichtung zur Abscheidung dünner Schichten
摘要 Durch die Erfindung ist eine Abscheidungsvorrichtung geschaffen, die eine deutliche Verringerung des Gasgesamtverbrauchs, eine Vereinfachung des Gesamtaufbaus und eine Kostensenkung der Vorrichtung selbst dann ermöglicht, wenn Gas in mehrere Dünnfilm-Herstellräume (20a, 20b) eingespeist wird. Die Vorrichtung verfügt über mehrere Dünnfilm-Herstellräume (20) zum Herstellen jeweils desselben Dünnfilms. In jedem dieser Dünnfilm-Herstellräume sind Quellengas-Zuführöffnungen (10) vorhanden, durch die mindestens ein Quellengas zugeführt werden kann. Aus mindestens einem (20a) der mehreren Dünnfilm-Herstellräume kann ein Auslassgas durch einen Auslassgas-Strömungspfad (14) in mindestens einen anderen (20b) derselben eingespeist werden. In den erstgenannten Dünnfilm-Herstellraum (20a) wird ein Verdünnungsgas eingespeist, und das Auslassgas wird von einem nach außen führenden Auslassstutzen (9) des anderen Dünnfilm-Herstellraums(20b) nach außen ausgelassen.
申请公布号 DE102004013626(A1) 申请公布日期 2004.10.21
申请号 DE200410013626 申请日期 2004.03.19
申请人 SHARP K.K., OSAKA 发明人 KISHIMOTO, KATSUSHI;HUKUOKA, YUSUKE;SHIMIZU, AKIRA;NOMOTO, KATSUHIKO
分类号 H01L21/205;C23C16/44;C23C16/455;(IPC1-7):C23C16/455 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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