发明名称 正型光阻组成物及光阻图案形成方法
摘要 本发明为提供一种具有良好解像性能的同时,也可降低显像缺陷之正型光阻组成物,及使用该正型光阻组成物之图案形成方法。前述正型光阻组成物,为包含具有酸解离性溶解抑制基,可因酸作用增加硷可溶性之树脂成分(A),与经曝光产生酸之酸产生剂成份(B)之正型光阻组成物,其中,树脂成分(A)为含有羟基苯乙烯所衍生之第1结构单位(a1),与具有醇性羟基之(甲基)丙烯酸酯所衍生之第2结构单位(a2)之共聚物,且前述结构单位(a1)之羟基与前述结构单位(a2)之醇性羟基之合计10莫耳%以上、25莫耳%以下受前述酸解离性溶解抑制基所保护,又,前述受酸解离性溶解抑制基保护之前的共聚物质量平均分子量为2000以上、8500以下。
申请公布号 TW200421031 申请公布日期 2004.10.16
申请号 TW092136577 申请日期 2003.12.23
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 佐藤和史;萩原三雄;川名大助
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本
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