具有腈和脂环族离去基团的共聚物和包含该共聚物的光刻胶组合物

摘要

本发明包括聚合物，和包含作为树脂粘合剂组分的聚合物的光刻胶组合物。本发明的光刻胶包括在短波长例如低于200nm、尤其是193nm时能够有效成象的化学放大的正性作用抗蚀剂。本发明的聚合物含有特定摩尔比的腈和光致酸不稳定基团，所述基团具有一脂环族部分，特别是桥连二环基团或三环基团或其它笼形基团。本发明的聚合物和抗蚀剂能够具有显著的耐等离子蚀刻性。

主权项

1.一种光刻胶组合物，包含一种光活性组分和一种包含聚合物的树脂，所述聚合物包含1)具有脂环族部分的光致酸不稳定酯基团，酯基团存在的量为基于聚合物总单元的30-60mol％，2)腈基团，其存在量为基于聚合物总单元的20-50mol％，和3)内酯基团，其存在的量为基于聚合物总单元的大于0至50mol％，且所述聚合物的芳基含量小于5mol％，条件是所述聚合物不包括由50∶25∶25摩尔比的聚合单元α-乙基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯、甲基丙烯腈和α-甲基丙烯酰基氧-γ-丁内酯组成的聚合物。