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发明名称 OZONE-ENHANCED SILYLATION PROCESS TO INCREASE ETCH RESISTANCE OF ULTRA THIN RESISTS
摘要
申请公布号 EP1279072(B1) 申请公布日期 2004.10.06
申请号 EP20010927263 申请日期 2001.04.19
申请人 ADVANCED MICRO DEVICES INC. 发明人 RANGARAJAN, BHARATH;SUBRAMANIAN, RAMKUMAR;PHAN, KHOI, A.;SINGH, BHANWAR;TEMPLETON, MICHAEL, K.;YEDUR, SANJAY, K.;CHOO, BRYAN, K.
分类号 G03F7/26;H01L21/027;H01L21/311;H01L21/3213;(IPC1-7):G03F7/40 主分类号 G03F7/26
代理机构 代理人
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