预估目标晶片之金属内连线单位长度电容値之方法

摘要

一种预估目标晶片之金属内连线单位长度电容值之方法，目标晶片具有复数金属层，各金属层具有既定之金属线布局规则，包括下列步骤。首先，在形成目标晶片之前，预先取得目标晶片各金属层之布局设计参数，布局设计参数系包括晶片金属内连线布局供布线之层数、各金属线布线之金属线宽度、金属线之间的距离、金属线布线占各金属层布线通道比例，接着，根据布局设计参数而随机产生对应之模拟内连线布局，最后，根据模拟金属内连线布局使用特定电容抽取软体，取得各金属层间单位金属线长度之电容值。