光栅结构的制作方法

摘要

本案系指一种光栅结构的制作方法，包含下列步骤：提供一基板，并于其上依序形成一第一绝缘层及一氧化矽层；于该氧化矽层上形成复数个凹槽；于该氧化矽层上形成一第二绝缘层，其中该第二绝缘层填满该复数个凹槽，并于该复数个凹槽内形成复数个光栅结构柱；于该第二绝缘层上定义复数个光栅结构区域，再先后形成一黏着层及一导电层于该复数个光栅结构区域上，其中该复数个光栅结构区域分别包含该复数个光栅结构柱；将位于该复数个光栅结构区域外的第二绝缘层去除；以及将该氧化矽层去除，使得该复数个光栅结构区域内的复数个光栅结构呈现。