发明名称 | 高压用电阻及其电阻值调整方法 | ||
摘要 | 一种高压用电阻及其电阻值调整方法,由基片(1)上的电阻膜(3)的非形成部开始覆盖含有电阻值调整部(3a)的电阻膜(3),通过激光调整直线状去除电阻膜(3),形成(4)个调整槽(7)。各调整槽(7)形成相同的长度。该调整方法能够在短时间高精度进行电阻值调整,能够在电阻值调整部得到高绝缘性。 | ||
申请公布号 | CN1169163C | 申请公布日期 | 2004.09.29 |
申请号 | CN99126058.9 | 申请日期 | 1999.12.14 |
申请人 | 株式会社村田制作所 | 发明人 | 东茂树 |
分类号 | H01C7/00;H01C13/00;H01C17/242 | 主分类号 | H01C7/00 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
主权项 | 1.一种高压用电阻,包括:基片和在所述基片上形成的电阻膜,所述电阻膜具有电阻调整部,在所述调整部为了调整电阻值,通过激光调整除去电阻膜形成多个直线状调整槽,其特征在于,所述调整槽相互平行且长度相同,并且各调整槽位于电阻膜内的一端均在一条与调整槽垂直的直线上。 | ||
地址 | 日本京都府 |