ZnS－SiO<SUB>2</SUB>溅射靶及使用该靶形成了ZnS－SiO<SUB>2</SUB>相变化型光盘保护膜的光记录媒体

摘要

本发明涉及一种相对密度为90％以上的ZnS－SiO₂溅射靶，其特征在于，使用将1－50摩尔％SiO₂系玻璃粉末与其余的ZnS粉末均匀分散、混合的粉末烧结而成，所述的SiO₂系玻璃粉末含有总计0.01－20重量％选自金属元素、硼、磷、砷或它们的氧化物的一种以上作为添加剂。通过能够以低成本稳定制造SiO₂晶粒小、相对密度90％以上的靶，得到光盘保护膜形成用溅射靶，它能够进一步提高沉积的均匀性和提高生产率，并得到使用该溅射靶形成了ZnS－SiO₂相变化型光盘保护膜的光记录媒体。

主权项

1.一种相对密度为90％以上的ZnS-SiO2溅射靶，其特征在于，使用将1-50摩尔％SiO2系玻璃粉末与其余的ZnS粉末均匀分散、混合的粉末烧结而成，所述的SiO2系玻璃粉末含有总计0.01-20重量％选自金属元素、硼、磷、砷或它们的氧化物的一种以上作为添加剂。