发明名称 一种具低电阻特性之沟渠式高功率半导体元件及制造方法
摘要 一种具低电阻特性之沟渠式高功率半导体元件及制造方法,该高功率半导体元件至少包含一基材、一基体区与一横跨此基体区之沟渠式闸极结构,其中于此基体区中形成有高功率半导体元件之源极区。
申请公布号 TW200418133 申请公布日期 2004.09.16
申请号 TW092104857 申请日期 2003.03.07
申请人 富鼎先进电子股份有限公司 发明人 黄林锺;俞克裕
分类号 H01L21/764 主分类号 H01L21/764
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 新竹市埔顶路九十九巷六号二楼之一