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发明名称
使用聚焦离子束之化学汽相沈积的光罩图案化
摘要
提供一种形成光罩图案之方法,包括:提供一石英基底,使用聚焦离子束及一有机气体以将碳沈积于该石英基底上而形成光罩图案,于一实施例中,所使用之离子束为镓离子束,而该有机气体系碳氢气体(carbon–hydrogengas)或嵌二(pyrene)气体。
申请公布号
TW200418091
申请公布日期
2004.09.16
申请号
TW092105515
申请日期
2003.03.13
申请人
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 SEMICONDUCTORMANUFACTURING INTERNATIONAL (SHANGHAI) CORP. 中国
发明人
陈新晋
分类号
H01L21/027;G03F9/00
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
中国
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