发明名称 表面等离子体共振响应基片的湿化学制备方法
摘要 本发明属于表面等离子体共振响应基片的湿化学制备方法。该方法以氨基丙基三甲氧基硅烷修饰玻片上的金纳米粒子自组装单层膜为催化模板,用氯金酸/羟氨为化学镀金液,通过控制反应时间以及通过摇动镀液改善传质,在纳米尺度范围内控制金膜的均匀增长。该法制备的SPR响应基片成本低、操作简单,且制得的基片SPR响应良好、重现性好。
申请公布号 CN1166812C 申请公布日期 2004.09.15
申请号 CN00133099.3 申请日期 2000.11.14
申请人 中国科学院长春应用化学研究所 发明人 金永东;董绍俊
分类号 C23C18/42;C23C18/18 主分类号 C23C18/42
代理机构 长春科宇专利代理有限责任公司 代理人 曹桂珍
主权项 1、一种表面等离子体共振响应基片的湿化学制备方法,其特征是将薄载玻片经铬酸洗液浸泡过夜,并在70℃的体积比为3∶1的浓H2SO4/30%H2O2混合溶液中浸泡10-30min后,用去离子水和光谱纯甲醇漂洗干净,然后浸入含0.4-0.8ml氨基丙基三甲氧基硅烷的4-8ml甲醇液中进行玻片硅烷化处理12-18小时后,取出已经硅烷化的玻片,用甲醇漂洗干净,并立即浸入用柠檬酸钠还原制备的、平均颗粒直径约为2.0-3.0nm的金溶胶中,组装12-18小时,取出玻片,水洗干净后即浸入4-8ml含浓度为0.1-1mM的羟氨和浓度为0.05-0.15%的氯金酸的镀金液中,均匀摇动,室温控制反应时间在10±1min,获得金膜厚度在45-60nm的SPR信号响应基片。
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