发明名称 利用胶合可产生导电功能之基材结构
摘要 一种利用胶合可产生导电功能之基材结构,包括有一下基材、一上基材及一接着剂,该下基材及该上基材均以金属材料制成,该上基材底面系设有接触端,该接着剂设置于该下基材顶面与该上基材底面之间,使该上基材胶合固定于该下基材上,且令该上基材底面之接触端与该下基材顶面接触导通;藉此,使上基材与下基材之间不会被绝缘,可具导电功能,具有良好的遮蔽保护效果。
申请公布号 TWM243764 申请公布日期 2004.09.11
申请号 TW091214916 申请日期 2002.09.20
申请人 广晋工业股份有限公司 发明人 余远梁
分类号 H01B1/08;H01B13/00 主分类号 H01B1/08
代理机构 代理人 谢宗颖 台北市大安区敦化南路二段七十一号十八楼;王云平 台北市大安区敦化南路二段七十一号十八楼
主权项 1.一种利用胶合可产生导电功能之基材结构,包括: 一下基材,系以金属材料制成; 一上基材,系以金属材料制成,该上基材底面系设 有接触端;以及 一接着剂,其设置于该下基材顶面与该上基材底面 之间,使该上基材胶合固定于该下基材上,且令该 上基材底面之接触端与该下基材顶面接触导通。 2.如申请专利范围第1项所述之利用胶合可产生导 电功能之基材结构,其中该接触端系呈点状。 3.如申请专利范围第1项所述之利用胶合可产生导 电功能之基材结构,其中该接触端系呈线状。 4.如申请专利范围第1项所述之利用胶合可产生导 电功能之基材结构,其中该接触端系呈面状。 5.如申请专利范围第1项所述之利用胶合可产生导 电功能之基材结构,其中该上基材并连接有一接合 柱,该接合柱具有一螺孔。 图式简单说明: 第一图系习知基材结构之立体分解图。 第二图系习知基材结构之剖视图。 第三图系习知基材结构另一接合方式之剖视图。 第四图系另一种习知基材结构之立体分解图。 第五图系另一种习知基材结构之剖视图。 第六图系本创作第一实施例基材结构之立体分解 图。 第七图系本创作第一实施例基材结构之剖视图。 第八图系本创作第二实施例基材结构之立体分解 图。 第九图系本创作第三实施例基材结构之立体分解 图。 第十图系本创作第四实施例基材结构之立体分解 图。 第十一图系本创作第五实施例基材结构之立体分 解图。
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