| 发明名称 | 用于清洗衬底表面的晶片清洗组件及其方法 | ||
| 摘要 | 在用于清洗衬底表面的方法中，在衬底(102)的表面上施加一定量溶液。在表面上施加溶液之后，开始溶液结晶(104)以形成液－晶混合物。在形成液－晶混合物之后，在液－晶混合物与衬底之间产生相对运动(106)以除去粘附在衬底上的污染物。在一个可选择的方法中，在衬垫上提供溶液。在另一个可选择的方法中，将衬底放入溶液池中。还描述了一种晶片清洗组件。 | ||
| 申请公布号 | CN1528011A | 申请公布日期 | 2004.09.08 |
| 申请号 | CN01816924.4 | 申请日期 | 2001.10.04 |
| 申请人 | 拉姆研究公司 | 发明人 | 耶海尔·哥特科斯 |
| 分类号 | H01L21/306;B08B3/04;B24B37/04 | 主分类号 | H01L21/306 |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李辉 |
| 主权项 | 1.一种用于清洗衬底表面的方法，包括：在衬底表面上提供一定量溶液；开始溶液的结晶以形成液-晶混合物；及在液-晶混合物与衬底之间产生相对运动。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||