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发明名称
多层叉合金属电容结构
摘要
一种多层叉合(Interdigitated)金属电容结构,其每一层系由两个极性不同之梳状结构金属电极彼此叉合而构成,且任两相邻层中之金属电极的梳状结构互相垂直,并藉由梳状结构边上之介层窗(Via)连接同极金属电极。其中,任两金属电极之间则为介电材料所隔开。
申请公布号
TW200416757
申请公布日期
2004.09.01
申请号
TW092103956
申请日期
2003.02.25
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
蔡则伦;贾育台;郭治群
分类号
H01G4/30
主分类号
H01G4/30
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区园区三路一二一号
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