发明名称 多层叉合金属电容结构
摘要 一种多层叉合(Interdigitated)金属电容结构,其每一层系由两个极性不同之梳状结构金属电极彼此叉合而构成,且任两相邻层中之金属电极的梳状结构互相垂直,并藉由梳状结构边上之介层窗(Via)连接同极金属电极。其中,任两金属电极之间则为介电材料所隔开。
申请公布号 TW200416757 申请公布日期 2004.09.01
申请号 TW092103956 申请日期 2003.02.25
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 蔡则伦;贾育台;郭治群
分类号 H01G4/30 主分类号 H01G4/30
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区园区三路一二一号