基板处理装置

摘要

本发明之基板处理装置，以安定且有效率地进行被处理基板之成膜处理为目的，基板处理装置系藉由于与加热部相对之位置处支持被处理基板，并使保持被处理基板之保持构件旋转，而均一地保持被处理基板之温度分布，抑制被处理基板之弯翘。另外，处理容器之内壁，系由不透明石英所形成之石英垫圈所覆盖着，可保护来自紫外线光源所照射之紫外线，可藉由隔热效果而抑制由加热部之热所引起之温度上昇。藉此，可延长处理容器之寿命。