曝光装置、对准方法及半导体装置之制造方法

摘要

本发明系于藉由互补分割进行图案形成之情况，即使例如发生底层照射旋转，亦可良好保持互补分割区域间之连接精度，并且可极力抑制收获率恶化。使用互补分割光罩(4)进行图案转印之际，于被曝光体之晶圆(1)之划线(2)上配置对准标记(3a、3b)，同时以邻接之原图案区域彼此共有划线(2)上之对准标记(3a、3b)。而且，分别光学检出此等对准标记(3a、3b)及配置于互补分割光罩(4)之对准标记(5a、5b)，以进行晶圆(1)与互补分割光罩(4)之相对定位。