一种IC晶粒承载架制程设备的清洗设备

摘要

本实用新型为一种IC晶粒承载架制程设备的清洗设备，该清洗设备为直立式逐次盘绕动线型态，此清洗设备左侧端设一开放式放料端，在开放式放料端斜上缘枢接有压轮，压轮右侧再将清刷段堆设一排，以及直立成排含有水洗一、水洗二、水洗三的水洗槽，再由风刀与其右侧设有烘箱，在烘箱右侧设有主传动组，在主传动组右侧设直立排列的防尘收料端，形成一节省平面空间又可充分利用工厂高度空间的立式清洗设备。

主权项

1.一种IC晶粒承载架制程设备的清洗设备，其特征在于：该清洗设备设为直立式逐次盘绕动线型态，在其左侧设有一开放式放料区(1)，此开放式放料区(1)枢接有压轮(2)，压轮(2)右侧设有一清刷段(3)，以及在清刷段(3)右侧设有一水洗槽(4)，水洗槽(4)右侧加装有风刀(5)与一烘箱(6)，在烘箱(6)前端设有主传动组(7)，在主传动组(7)右侧设一防尘收料端(8)。