发明名称 可调整光束扫描位置的装置
摘要 本发明提供一种可简单且高精度地调整副扫描方向上的光束的扫描位置的曝光装置及图像形成装置。在曝光单元中,光束从激光光源经准直仪透镜以及柱面透镜入射到光扫描元件(65)中。在该光扫描元件(65)中,可绕着相互正交的第一轴AX1以及第二轴AX2、并且独立地摆动驱动偏转镜面(651)。另外,通过控制由第一轴驱动部分和第二轴驱动部分构成的镜驱动部分来使偏转镜面(651)绕着第一轴AX1摆动,从而偏转光束使其沿着主扫描方向X扫描。另一方面,通过使偏转镜面(651)绕着第二轴AX2摆动,可以调整感光体(2)上的扫描光束在副扫描方向Y上的位置。
申请公布号 CN1523394A 申请公布日期 2004.08.25
申请号 CN200410004394.4 申请日期 2004.02.17
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 野村雄二郎
分类号 G02B26/10;G03G15/00;H04N1/04 主分类号 G02B26/10
代理机构 北京东方亿思专利代理有限责任公司 代理人 柳春雷
主权项 1.一种曝光装置,使光束在潜像载体的表面上沿着主扫描方向扫描,其特征在于,该曝光装置包括:光源部分,用于射出光束;内侧可动构件,具有偏转镜面;外侧可动构件,支承所述内侧可动构件,使其可绕着主扫描偏转轴自由摆动;支承构件,支承所述外侧可动构件,使其可绕着不同于所述主扫描偏转轴的副扫描偏转轴自由摆动;镜驱动部分,绕着所述主扫描偏转轴摆动驱动所述内侧可动构件,并绕着所述副扫描偏转轴摆动驱动所述外侧可动构件,通过所述镜驱动部分来使所述偏转镜面绕着所述主扫描偏转轴摆动,从而使来自所述光源部分的光束向所述主扫描方向扫描,同时使所述偏转镜面绕着所述副扫描偏转轴摆动,从而调整所述副扫描方向上的所述扫描光束的位置。
地址 日本东京都