发明名称 | 用于乾蚀刻反应室之压力计感应器的缓冲器 | ||
摘要 | 一种用来保护测量乾蚀刻反应室内压力之压力计感应器的缓冲器。此种缓冲器包括用来连接该反应室与该压力计的一真空管和用来阻挡该反应室之电浆直接冲击该感应器之至少一板片,该至少一板片系设置在该真空管内壁上,可有效防止电浆附着在该感应器上。 | ||
申请公布号 | TWI220540 | 申请公布日期 | 2004.08.21 |
申请号 | TW092119702 | 申请日期 | 2003.07.18 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 彭顺煌;杨世雄;梁忠棋;黄明夷 |
分类号 | H01L21/3065 | 主分类号 | H01L21/3065 |
代理机构 | 代理人 | 李长铭 台北市中山区南京东路二段五十三号九楼;翁仁滉 台北市中山区南京东路二段五十三号九楼 | |
主权项 | 1.一种用来保护测量一乾蚀刻反应室内压力之压力计感应器的缓冲器,其系包括:一真空管,连接该反应室与该压力计;以及至少一板片,用来阻挡该反应室之电浆直接冲击该感应器,并设置在该真空管内壁上。2.如申请专利范围第1项所述之缓冲器,其中该至少一板片系为不锈钢片。3.如申请专利范围第1项所述之缓冲器,其另包括一网状结构,该网状结构系设置在该真空管靠近该反应室之前端处。4.如申请专利范围第3项所述之缓冲器,其中该网状结构系为铁丝网。5.一种用来保护测量一乾蚀刻反应室内压力之压力计感应器的缓冲器,其系包括:一真空管,连接该反应室与该压力计;以及两板片,用来阻挡该反应室之电浆直接冲击该感应器,并分别一前一后地设置在该真空管之上和下内壁上。6.如申请专利范围第5项所述之缓冲器,其另包括一网状结构,该网状结构系设置在该真空管靠近该反应室之前端处。图式简单说明:图一系为习知技术之乾蚀刻机台的反应室与压力计的相对位置示意图;以及图二系为本发明的压力计缓冲器结构的较佳实施例。 | ||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路一号 |