| 摘要 |
本发明之光阻用高分子化合物，于聚合物构造中，包含具有2,6–二氧杂双环〔3.3.0〕辛烷骨架(2,6–Dioxabicyclo〔3.3.0〕OctaneSkeleton)之单体单元。于具有该2,6–二氧杂双环〔3.3.0〕辛烷骨架之单体单元当中，包含以下列第(I)式(式中R表示氢原子或是甲基)所表示之单体单元。092130615p01.bmp上述光阻用高分子化合物亦可由具备2,6–二氧杂双环〔3.3.0〕辛烷骨架之单体单元，及具有基板密着性基之单体单元，及具有氧解离基之单体单元所构成。本发明之光阻用高分子化合物不仅具有基板密着性、及氧解离性、及耐乾式蚀刻特性，亦具有优良的对光阻溶剂之溶解性及均衡的硷性可溶性。092130615p01.bmp |
