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发明名称
电浆处理装置及电浆处理方法
摘要
本案所揭示系为一种电浆处理装置,其系用以执行一电浆处理,其包含一电磁波来源用以产生一电磁波、一矩形导波板、复数个槽形成于该矩形导波板且构成一导波板天线、由一介电本体组成之一电磁波发射窗、以及一真空室,其中一电浆之产生系藉由一电磁波从该槽透过该电磁波发射窗发射进入该真空室,该电浆处理装置系构成以包含一电磁波分配导波板部分用以分配来自该电磁波来源之该电磁波进入每一该导波板,且该复数个导波板系由该电磁波分配导波板部分之该电场平面或垂直于该磁场平面之平面分枝。
申请公布号
TW200415726
申请公布日期
2004.08.16
申请号
TW092133944
申请日期
2003.12.02
申请人
液晶先端技术开发中心股份有限公司
发明人
中田行彦;东和文;冈本哲也;后藤真志
分类号
H01L21/3065;C23F4/00
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
蔡清福
主权项
地址
日本
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