| 摘要 |
Eine Projektionsbelichtungsanlage (1) ist mit einer Beleuchtungseinrichtung (3) mit einer Lichtquelle, insbesondere einem UV-Licht imitierenden Laser, mit einem Projektionsobjektiv (7), mit einer Reticle-Ebene, in der ein Reticle (5) angeordnet ist, mit einer Wafer-Ebene, in der ein Wafer (2) angeordnet ist, und mit einem Spülgassystem zum Spülen des Innenraumes des Projektionsobjektivs (7) und/oder der äußeren Bereiche, insbesondere der Reticle-Ebene und der Wafer-Ebene, versehen. Wenigstens eine Einrichtung (25, 32, 33, 27) zur Überwachung wenigstens eines Spülgasstromes, die bei Unterschreiten einer vorgegebenen Spülgasdurchflussmenge die Strahlung der Lichtquelle zu dem Projektionsobjektiv (7) unterbricht, ist vorgesehen.
|
