| 主权项 |
1.一种惯性感测器性能调整装置,其包含有:一悬浮结构,其一端系固设于一支撑件上,使该悬浮结构之另一端呈悬浮状态;以及一微电镀结构,系由微电镀制程成型于悬浮结构之呈悬浮状态之一端,其具有一高度。2.如申请专利范围第1项所述之惯性感测器性能调整装置,其中,该悬浮结构更包含有:一悬臂,其一端系固设于一支撑件上,使该悬臂之另一端呈悬浮状态;以及一平台,系设置于悬臂之呈悬浮状态之一端,该平台系以该悬臂为中心分向两侧水平延伸一长度而成,于该平台顶部之两端各设有一微电镀结构。3.如申请专利范围第2项所述之惯性感测器性能调整装置,其中,该悬浮结构设有补强结构,该补强结构包含有:内侧补强结构,其系设置于悬臂顶部两侧并延伸于平台内侧,再与微电镀结构连接;以及外侧补强结构,其系设置于平台外侧且不与微电镀结构连接。4.如申请专利范围第1项所述之惯性感测器性能调整装置,其中,该悬浮结构为惯性感测器上之震动结构。5.如申请专利范围第1项所述之惯性感测器性能调整装置,其中,该悬浮结构系由牺牲层技术之微面型加工技术,或微体型加工技术配上薄膜制程制作而成者。6.如申请专利范围第1项所述之惯性感测器性能调整装置,其中,该悬浮结构包含支撑结构、讯号连结路径、电讯号隔绝层。7.如申请专利范围第1项所述之惯性感测器性能调整装置,其中,该微电镀制程包括下列步骤:(a)备置一悬浮基础结构;(b)于悬浮基础结构上电镀一电镀起始层;(c)于电镀起始层上建立一具有绝缘性之厚膜光阻;(d)于厚膜光阻间电镀形成具有一厚度之电镀金属层;(e)去除厚膜光阻;(f)去除电镀起始层;以及(g)去除牺牲层,由悬浮结构层与电镀金属层构成一悬浮结构。图式简单说明:第一图系习知面型矽基加工制程步骤图。第二图系习知体型矽基加工制程步骤图。第三图及第四图系习知以微机电制程所制作之微惯性感测系统之两种结构示意图。第五图系本发明之一较佳实施例立体图。第六图系本发明另一较佳实施例立体图。第七图系本发明之悬浮基础结构之制程步骤图。第八A图及第八B图系本发明之微电镀结构制程步骤图。 |
