发明名称 |
LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图形的形成方法 |
摘要 |
本发明提供一种LCD制造用的抗蚀剂材料,该抗蚀剂材料是LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于,包括(A)碱可溶性树脂,(B)聚苯乙烯换算质均分子量为300-1300的低分子量酚醛清漆树脂和萘醌二叠氮磺酸化合物的、平均酯化率为30-90%的酯化反应生成物,(C)分子量为1000以下的含有酚性羟基的化合物,(D)有机溶剂。根据本发明的抗蚀剂组合物,即使在低NA条件下,也能够以高的析像度形成抗蚀图形,优选线性良好抗蚀剂组合物。 |
申请公布号 |
CN1519648A |
申请公布日期 |
2004.08.11 |
申请号 |
CN200410002210.0 |
申请日期 |
2004.01.15 |
申请人 |
东京应化工业株式会社 |
发明人 |
大内康秀;中山一彦;丸山健治;土井宏介 |
分类号 |
G03F7/022 |
主分类号 |
G03F7/022 |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
李香兰 |
主权项 |
1.一种LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于,包括(A)碱可溶性树脂,(B)聚苯乙烯换算质均分子量为300-1300的低分子量酚醛清漆树脂和萘醌二叠氮磺酸化合物的、平均酯化率为30-90%的酯化反应生成物, (C)分子量为1000以下的含有酚性羟基的化合物,(D)有机溶剂。 |
地址 |
日本神奈川县 |