| 发明名称 | 厚抗蚀剂图案的形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种感光树脂组合物，其包含碱溶性树脂和含醌二叠氮化物基团的光敏剂，碱溶性树脂是酚醛清漆树脂和至少一种选自下述的混合物：(i)聚丙烯酸酯，(ii)聚甲基丙烯酸酯，(iii)聚苯乙烯衍生物和(iv)选自丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯和苯乙烯衍生物的两种或多种单体组成的共聚物。该组合物可用于衬底上形成厚光致抗蚀剂膜，其膜厚度为2.0μm或更厚。将该膜曝光，然后显影而形成厚抗蚀剂图案。感光树脂组合物可包含一种具有一个或多个酚性羟基基团的低或高分子化合物。 | ||
| 申请公布号 | CN1518685A | 申请公布日期 | 2004.08.04 |
| 申请号 | CN02811618.6 | 申请日期 | 2002.06.05 |
| 申请人 | 克拉瑞特国际有限公司 | 发明人 | 高桥修一 |
| 分类号 | G03F7/022;G03F7/033;G03F7/004 | 主分类号 | G03F7/022 |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 1.一种厚膜抗蚀剂图案的形成方法，采用膜厚度为2.0μm或更厚的光致抗蚀剂膜，其中，感光树脂组合物包含碱溶性树脂和含醌二叠氮化物基团的光敏剂，所述的碱溶性树脂是酚醛清漆树脂和选自下述的一种或多种树脂的混合物：(i)聚丙烯酸酯，(ii)聚甲基丙烯酸酯，(iii)聚苯乙烯衍生物和(iv)选自丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯和苯乙烯衍生物的两种或多种单体单元的共聚物。 | ||
| 地址 | 瑞士穆滕茨 | ||