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发明名称 Use of a solution for developing a photosensitive polyimide precursor, and method of patterning
摘要
申请公布号 EP0940724(B1) 申请公布日期 2004.08.04
申请号 EP19990102864 申请日期 1999.03.03
申请人 HITACHI CHEMICAL DUPONT MICROSYSTEMS LTD. 发明人 KOMATSU, HIROSHI;MOTOBE, TAKEHARU
分类号 G03F7/027;G03F7/038;G03F7/32;H01L21/027;H05K3/46;(IPC1-7):G03F7/32 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
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