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发明名称
利用水蒸气做为离子植入后之阻剂剥除作业中供移除外壳、阻剂及残留物用之处理气体
摘要
水蒸气被用来做为一处理气体,以从一基板剥除阻剂材料,该基板具有一先前被用来做为离子植入遮罩之图案化阻剂层,其中该图案化阻剂层由一覆盖一主要阻剂部分之阻剂外壳所界定。广泛来说,水蒸气显现其可更有效率的剥除具有一交联阻剂外壳之阻剂材料,而不造成阻剂外壳爆开,也不会使主要阻剂被底切。因此,水蒸气提供了一种安全、有效率、且经济的处理气体,可用来剥除具有由离子植入制程所造成之阻剂外壳的阻剂材料。
申请公布号
TW200413863
申请公布日期
2004.08.01
申请号
TW092124041
申请日期
2003.08.29
申请人
兰姆研究公司
发明人
安东尼陈;罗素芸
分类号
G03F7/42
主分类号
G03F7/42
代理机构
代理人
许峻荣
主权项
地址
美国
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