发明名称 利用水蒸气做为离子植入后之阻剂剥除作业中供移除外壳、阻剂及残留物用之处理气体
摘要 水蒸气被用来做为一处理气体,以从一基板剥除阻剂材料,该基板具有一先前被用来做为离子植入遮罩之图案化阻剂层,其中该图案化阻剂层由一覆盖一主要阻剂部分之阻剂外壳所界定。广泛来说,水蒸气显现其可更有效率的剥除具有一交联阻剂外壳之阻剂材料,而不造成阻剂外壳爆开,也不会使主要阻剂被底切。因此,水蒸气提供了一种安全、有效率、且经济的处理气体,可用来剥除具有由离子植入制程所造成之阻剂外壳的阻剂材料。
申请公布号 TW200413863 申请公布日期 2004.08.01
申请号 TW092124041 申请日期 2003.08.29
申请人 兰姆研究公司 发明人 安东尼陈;罗素芸
分类号 G03F7/42 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人 许峻荣
主权项
地址 美国