基板之可选择区域雷射辅助处理

摘要

一种用于如薄膜电晶体之一基板之可选择区域雷射处理之系统及方法，该系统包含一固定座，用于固定一基板以邻近于反应物，且雷射束设定于各定址基板上可独立选择之相互间隔位置，以在基板与反应物之间引发一反应。