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经营范围
发明名称
Plasma processing device
摘要
申请公布号
US2004144492(A1)
申请公布日期
2004.07.29
申请号
US20030479349
申请日期
2003.12.01
申请人
发明人
IKEDA TARO;IIZUKA HACHISHIRO;YAMAMOTO KAORU
分类号
H01J37/32;(IPC1-7):H01L21/306
主分类号
H01J37/32
代理机构
代理人
主权项
地址
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