发明名称 | 一种薄膜晶体管的制作方法 | ||
摘要 | 一基底表面形成有一薄膜晶体管的一栅极。首先依序于该栅极上形成一栅极绝缘层与一非晶硅层,再进行一去氢步骤,并将该非晶硅层转化为一结晶硅层。接着于该栅极上形成一掺杂半导体层,并去除部分的该掺杂半导体层与该结晶硅层。最后于该基底表面形成该薄膜晶体管的一源极与一漏极,并于该基底上形成一钝化层。 | ||
申请公布号 | CN1516249A | 申请公布日期 | 2004.07.28 |
申请号 | CN03101068.7 | 申请日期 | 2003.01.09 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 李信宏;曹义昌;苏志鸿 |
分类号 | H01L21/336;G09F9/30 | 主分类号 | H01L21/336 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 张平元;赵仁临 |
主权项 | 1.一种形成有机发光二极管(organic light-emitting diode,OLED)显示器的薄膜晶体管的方法,该方法包含下列步骤:提供基底;于该基底上沉积第一金属层;对该第一金属层进行第一光蚀工艺,以于该基底表面形成该薄膜晶体管的一栅极;依序于该栅极上形成栅极绝缘层和第一非晶硅层;进行去氢步骤,以移除该第一非晶硅层中的氢原子;进行再结晶工艺,以将该第一非晶硅层转化为结晶硅层;于该栅极上形成第二非晶硅层;于该栅极上形成掺杂半导体层;进行第二光蚀工艺,以去除部分的该掺杂半导体层、该第二非晶硅层与该结晶硅层;于该基底上形成第二金属层;进行第三光蚀工艺,以于该基底表面形成该薄膜晶体管的源极与漏极,并同时去除部分的该掺杂半导体层,以暴露出该第二非晶硅层;以及于该基底上形成钝化层。 | ||
地址 | 台湾省新竹市 |