| 发明名称 |
COPPER CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SOLUTIONS USING SULFONATED AMPHIPROTIC AGENTS |
| 摘要 |
Chemical mechanical slurries containing sulfonated zwitterions. The method comprises a) providing an etched wafer; b) contacting the wafer with the slurry; c) mechanical abrading the wafer. |
| 申请公布号 |
WO2004044075(A3) |
申请公布日期 |
2004.07.22 |
| 申请号 |
WO2003US34242 |
申请日期 |
2003.10.29 |
| 申请人 |
ATOFINA CHEMICALS, INC. |
发明人 |
MARTYAK, NICHOLAS, M.;CARROLL, GLENN |
| 分类号 |
C09G1/04;C09K3/14;H01L21/321 |
主分类号 |
C09G1/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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