| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTER DEPOSITION OF EPILAYERS WITH HIGH DEPOSITION RATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1438443(A1) |
申请公布日期 |
2004.07.21 |
| 申请号 |
EP20020799663 |
申请日期 |
2002.09.27 |
| 申请人 |
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY;CHISTYAKOV, ROMAN |
发明人 |
CHISTYAKOV, ROMAN |
| 分类号 |
C23C14/34;C23C14/35;C30B23/02;H01J37/34;H01L21/205;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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