发明名称 ATOMIC LAYER DEPOSITION REACTOR
摘要
申请公布号 KR20040063893(A) 申请公布日期 2004.07.14
申请号 KR20047002218 申请日期 2002.08.15
申请人 发明人
分类号 C23C16/00;C23C16/44;C23C16/452;C23C16/455;C23C16/507;C23C16/509 主分类号 C23C16/00
代理机构 代理人
主权项
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