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经营范围
发明名称
ATOMIC LAYER DEPOSITION REACTOR
摘要
申请公布号
KR20040063893(A)
申请公布日期
2004.07.14
申请号
KR20047002218
申请日期
2002.08.15
申请人
发明人
分类号
C23C16/00;C23C16/44;C23C16/452;C23C16/455;C23C16/507;C23C16/509
主分类号
C23C16/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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