METHOD FOR THE TREATMENT OF A RESIST SYSTEM AND CORRESPONDING DEVICE
摘要
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Behandlung eines Resistsystems für die Herstellung eines Halbleiterbauelementes, wobei das Resistsystem (1) polare und / oder geladenen Bestandteile aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Belichten des Resistsystems (1) auf ein Substrat (2) das Resistsystem (1) einem elektrischen Feld (10) zur Beeinflussung der Bewegung der polaren und / oder geladenen Bestandteile des Resistsystems (1) ausgesetzt wird. Damit kann die laterale Diffusion von geladenen und / oder polaren Bestandteilen des Reistsystems verringert oder verhindert werden._________________________________</p>
