具有高深宽比特征之蚀刻方法

摘要

本发明提供用于操作电浆反应器以便在一真空室之工件上蚀刻高深宽比特征之方法。该方法至少包含实施蚀刻制程后接着为闪光制程。在蚀刻制程中，会供应一第一气体进入该真空室，且会维持该第一气体之电浆达一第一时段。该第一气体之电浆至少包含蚀刻剂及钝化物种。在闪光制程中，会供应一至少包含一沈积移除气体之第二气体进入该真空室，且会维持该第二气体之电浆达一第二时段。该第二时段中介于该工件与该第二气体之电浆间的直流电压系明显小于在该第一时段中介于该工件与该第一气体之电浆间之直流电压。