| 摘要 |
一种沿着堆叠的电子元件边缘面提供自我校准接触衬垫的方法，该方法使用从金属接触导线反射的光定义其之位置。施加光敏感聚合物薄层在侦测到入射光的边缘面上。施加溶剂显影剂将反射光通过的聚合物溶解。在双通技术中反射光摧毁聚合物中的抑制剂，并且该部分的薄层由显影剂溶解以刻画出做为接触衬垫的空隙。在波前抵消技术中反射光与单通光为180°异相，这种结合不架桥聚合物中的分子，并且溶解薄层的该部分，刻画出做为接触衬垫的空隙。在一个使用雷射讯问技术的替代实施例中，吸收光谱外的第一入射光从金属接触导线反射，然后把吸收光谱之内的第二入射光导入到侦测到反射光的位置，聚合物的那些部分接着由显影剂依序溶解。上面所述的方法提供非机械光微影技术以精确刻画出做为接触衬垫的空隙。 |
