发明名称 半导体记忆体装置及半导体装置
摘要 一种半导体记忆装置,包括含有多个记忆体单元之一组记忆体单元阵列,每一记忆体单元各含有一第一MISFET(金属绝缘矽场效电晶体)和一第二MISFET。该第一MISFET包括一第一源极区,一第一汲极区,及一第一闸极,以及在该第一源极区和第一汲极区之间的一层半导体层,该半导体层是处于浮动状态的一个浮动本体。而该第二MISFET则包括一第二源极区,一第二汲极区,和一第二闸极,以及位于该第二源极及第二汲极之间的一层半导体层,且该半导体层乃系与第一MISFET共用之上述浮动本体。
申请公布号 TW200411904 申请公布日期 2004.07.01
申请号 TW092116377 申请日期 2003.06.17
申请人 东芝股份有限公司 发明人 大泽隆
分类号 H01L27/10 主分类号 H01L27/10
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本