发明名称 控制包覆磁性材料之碳基奈米结构制程
摘要 本发明系一种控制包覆磁性材料之碳基奈米结构制程,系以电子回旋共振微波电浆沉积法(化学气相沉积法),成长包覆磁性材料之碳奈米结构及其后处理时,施以适当的磁场以改进磁性异向性;并以表面具有触媒和添加物之基材通以直流偏压源及加热,做电浆前处理使进行基材表面蚀刻,再使反应气体进行化学气相沉积;藉此,达到控制奈米结构材料之尺寸、形状、形成具方向性排列成长之奈米结构,可有效提高磁记忆媒体之纪录密度,并具保护隔离效果以避免相互干扰,而且具磁异方性和矫顽磁力高的效果。
申请公布号 TW200410906 申请公布日期 2004.07.01
申请号 TW091137590 申请日期 2002.12.27
申请人 国立交通大学 发明人 郭正次;林兆焄;骆安亚;骆伯远
分类号 C01B33/02;C23C16/02;C23C16/513;G11B5/00 主分类号 C01B33/02
代理机构 代理人 欧奉璋
主权项
地址 新竹市东区大学路一○○一号