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发明名称
控制包覆磁性材料之碳基奈米结构制程
摘要
本发明系一种控制包覆磁性材料之碳基奈米结构制程,系以电子回旋共振微波电浆沉积法(化学气相沉积法),成长包覆磁性材料之碳奈米结构及其后处理时,施以适当的磁场以改进磁性异向性;并以表面具有触媒和添加物之基材通以直流偏压源及加热,做电浆前处理使进行基材表面蚀刻,再使反应气体进行化学气相沉积;藉此,达到控制奈米结构材料之尺寸、形状、形成具方向性排列成长之奈米结构,可有效提高磁记忆媒体之纪录密度,并具保护隔离效果以避免相互干扰,而且具磁异方性和矫顽磁力高的效果。
申请公布号
TW200410906
申请公布日期
2004.07.01
申请号
TW091137590
申请日期
2002.12.27
申请人
国立交通大学
发明人
郭正次;林兆焄;骆安亚;骆伯远
分类号
C01B33/02;C23C16/02;C23C16/513;G11B5/00
主分类号
C01B33/02
代理机构
代理人
欧奉璋
主权项
地址
新竹市东区大学路一○○一号
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