发明名称 | 具有隔离功能之闸极电极结构及其制造方法 | ||
摘要 | 本案系指一种具有隔离功能之闸极电极结构及其制造方法,该制造方法包括下列步骤:提供一基板;形成一闸极电极层上;形成一隔离层于该闸极电极层上,且该隔离层与该闸极电极层具有相同之覆盖面积;去除部份之该闸极电极层及该隔离层,藉以分别定义出一闸极电极结构及一隔离结构;形成一保护层于该闸极电极结构及该隔离结构上;以及去除该保护层之水平部份,藉以于该闸极电极结构及该隔离结构之两侧形成一间隙壁结构。 | ||
申请公布号 | TW200411747 | 申请公布日期 | 2004.07.01 |
申请号 | TW091137064 | 申请日期 | 2002.12.23 |
申请人 | 华邦电子股份有限公司 | 发明人 | 刘汉兴 |
分类号 | H01L21/28;H01L21/76 | 主分类号 | H01L21/28 |
代理机构 | 代理人 | 蔡清福 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区研新三路四号 |