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经营范围
发明名称
Fotopolymerisierbare Zusammensetzung und trockener Filmresist
摘要
申请公布号
DE69817471(T2)
申请公布日期
2004.07.01
申请号
DE19986017471T
申请日期
1998.06.24
申请人
SHOWA DENKO K.K., TOKIO/TOKYO
发明人
MORIHIKO, YAMADA;TSUYOSHI, KATOH;KATSUMI, MUROFUSHI
分类号
G03F7/029;(IPC1-7):G03F7/029
主分类号
G03F7/029
代理机构
代理人
主权项
地址
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