UV基片加热和光化学的设备

摘要

本发明的装置提供UV源既加热衬底和促进衬底处理所必需的光化学的两种用途。本发明还提供一种处理衬底的方法，通过第一功率电平的UV辐射使衬底加热到环境温度以上的温度，并在出现第二功率电平的UV辐射时，通过把衬底暴露在光化学(UV)反应化合物或能够与衬底表面上复合物起作用的反应化合物中而形成光化学反应复合物。

主权项

1.一种用于在具有前侧和后侧的衬底上执行UV加热和光处理步骤的装置，所述装置包括：用于容纳和保持衬底的反应箱，该反应箱包括前侧和后侧；被配置成直接辐射在衬底上的至少一个宽光谱UV辐射源，这里所述辐射源将波长从0.1累计到1.0微米的至少为0.3瓦/厘米2的总辐射功率释放到衬底的至少一部分；以及控制系统，用于控制至少一个UV辐射源以提供至少两种不同时间平均的能量电平的UV输出，一个加热电平对诱发衬底的加热有效以及一个光化学电平对诱发所述光处理有效。