发明名称 双位元非挥发性存储单元的结构及其读写方法
摘要 一种双位元非挥发性存储单元结构及其读写方法,此存储单元包括二堆叠栅结构、二堆叠栅结构间的一掺杂区,及位于二堆叠栅结构外侧的二源/漏极区,源/漏极区的掺杂型态与掺杂区相同。写入时,同时将二堆叠栅结构下方的通道打开,以通道电流的方向选择欲写入的浮置栅极。读数据时,在第一浮置栅极上方的第一、第二控制栅极上施加读取偏压、转移偏压,以二源/漏极区导通与否来决定数据是否写入,其中读取偏压大于擦除状态的通道启始电压,小于写入状态的启始电压,转移偏压大于写入状态的启始电压。
申请公布号 CN1156009C 申请公布日期 2004.06.30
申请号 CN01104742.9 申请日期 2001.02.23
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 陈锦扬
分类号 H01L27/115;H01L27/105;H01L21/8239 主分类号 H01L27/115
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波
主权项 1.一种双位元非挥发性存储单元的结构,包括:一基底;位于该基底上的二堆叠栅结构,其中每一堆叠栅结构都包括由下而上堆叠的一隧道层、一浮置栅极、一栅间介电层与一控制栅极;一掺杂区,该掺杂区位于该二堆叠栅结构之间的该基底中;以及二源/漏极区,该二源/漏极区分别位于该二堆叠栅结构外侧的该基底中,且该二源/漏极区的掺杂型态与该掺杂区相同。
地址 台湾省新竹科学工业园区