发明名称 液晶显示装置
摘要 一种液晶显示装置,以一种简单结构防止显示区域中之间隙不均匀度的产生。薄膜电晶体基板及一相对基板以一密封构件相互耦接以在其间形成一间隙,一液晶层在间隙中形成,间隔物排列在液晶层中。薄膜电晶体基板具有包括像素之一显示区域及形成于显示区域外之一非显示区域。非显示区域位于显示区域与密封构件之间,间隔物位于相应显示区域之液晶层之第一部件,而在相应非显示区域之液晶层之第二部件没有放置间隔物。一用以接受额外液晶的凹部可另外在间隙中形成。伍、(一)、本案代表图为:第7图(二)、本案代表图之元件代表符号简单说明:12~薄膜电晶体基板; 14~相对基板;14a~基板构件; 16~液晶层;18~显示区域; 20~非显示区域;22~密封构件; 24、28~圆柱间隔物;26~液晶显示面板; 30~内密封间隔物;12a~薄膜电晶体基板构件。
申请公布号 TW594179 申请公布日期 2004.06.21
申请号 TW092120940 申请日期 2003.07.31
申请人 NEC液晶科技股份有限公司 发明人 廉谷勉
分类号 G02F1/133 主分类号 G02F1/133
代理机构 代理人 洪澄文 台北市大安区信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种液晶显示装置,包括:一第一基板,其中像素排列于其上;一第二基板,以一密封构件与上述第一基板耦接以形成上述第一及第二基板间之间隙;一液晶层,其形成于上述间隙中,且被上述密封构件密封于其中;以及间隔物,排列于液晶层中;其中上述一基板具有一显示区域以显示影像,上述显示区域包含上述像素;以及其中上述第一基板具有形成于上述显示区域外之一非显示区域,其位于上述显示区域及上述密封构件之间;以及上述间隔物位于相应上述显示区域之液晶层之一第一部件,而无任何间隔物位于相应上述非显示区域之液晶层之一第二部件。2.如申请专利范围第1项所述的液晶显示装置,其中,上述装置系由一液晶注入法所形成。3.如申请专利范围第1项所述的液晶显示装置,其中,上述装置系由一液晶滴落(liquid-crystal dropping)及基板耦接(coupling)法所形成。4.如申请专利范围第1项所述的液晶显示装置,更包括一凹部,其形成于上述第一或第二基板之内表面上;其中,上述凹部位于上述液晶层之上述第二部件,从而在上述显示区域与上述非显示区域间形成一台阶(step);以及其中上述凹部组成一缓冲空间(buffer space)以接收额外的液晶。5.如申请专利范围第4项所述的液晶显示装置,其中,薄膜电晶体以电力耦接各像素的方式排列于上述第一基板上,且一介电层形成于上述第一基板上以覆盖上述薄膜电晶体与上述像素;其中,上述凹部形成于上述介电层中。6.如申请专利范围第4项所述的液晶显示装置,其中,一介电层形成于上述第二基板上;其中,上述凹部形成于上述介电层中。7.如申请专利范围第4项所述的液晶显示装置,其中,上述第一及第二基板之其一包括一透明板,其内表面具有一凹陷部件(depress part);其中,上述凹部利用上述透明板之凹陷部件形成。8.如申请专利范围第1项所述的液晶显示装置,其中,上述非显示区域之宽为L(m),上述显示区域具有一平均値d(m),且上述凹部之高H满足下列关系式H≧(1/2)(1000+L)[0.02d+[L(0.02d/1000)]/L(m)。9.如申请专利范围第1项所述的液晶显示装置,其中,上述间隔物为柱状(pole-shaped)且形成于上述第一及第二基板之其一上。图式简单说明:第1图系显示习知液晶显示装置之局部结构图。第2图系显示第1图之习知液晶显示装置之前视图。第3A-3D图系分别显示第1图之习知液晶显示装置之局部剖面示意图,其显示利用液晶注入法之制造方法之流程步骤。第4A-4C图系分别显示第1图之习知液晶显示装置之局部剖面示意图,其显示利用液晶滴落及基板耦接法之制造方法之流程步骤。第5图系显示本发明第一实施例中之液晶显示装置之前视图。第6图系显示本发明第5图之第一实施例中之液晶显示装置之局部剖面图。第7A-7D图系分别显示本发明第5图之第一实施例中之液晶显示装置之局部剖面图,其显示利用液晶注入法之制造方法之流程步骤。第8A-8C图系分别显示本发明第5图之第一实施例中之液晶显示装置之局部剖面图,其显示利用液晶滴落及基板耦接法之制造方法之流程步骤。第9图系显示本发明第二实施例中之液晶显示装置之局部剖面图第10图系显示本发明之液晶显示装置之详细局部剖面图,其显示缓冲空间之容积计算结果(即,显示区域及非显示区域间之台阶高度)。第11图系显示本发明第9图之第二实施例中之液晶显示装置之放大局部剖面图,其显示详细结构。第12图系显示本发明第三实施例中之液晶显示装置之局部剖面图。第13图系显示本发明第四实施例中之液晶显示装置之局部剖面图。
地址 日本