| 主权项 |
1.一种在基材表面上制备图案化光阻层之方法,包含的步骤为(a)在基材表面上形成一层正性化学放大光阻组成物,(b)使光阻层依图案暴露于光化射线下,(c)以依图案曝光之光阻层进行后曝光烘烤处理及(d)以后曝光烘烤处理之后的光阻层利用硷性显影剂水溶液进行显影处理,其特征在于使该光阻层在步骤(c)后曝光烘烤处理之后,在步骤(d)显影处理之前,与内含酸之酸性水溶液接触。2.如申请专利范围第1项之方法,其中酸性水溶液之酸硷度为3.5或更低。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该酸在酸性水溶液中之浓度分布于0.01至50质量%之间。4.如申请专利范围第1项之方法,其中包含于酸性水溶液中的酸系一种芳香族磺酸。5.如申请专利范围第4项之方法,其中包含于该酸性水溶液中的芳香族磺酸系一种分子中含两个苯核或环结构之化合物。6.如申请专利范围第5项之方法,其中包含于该酸性水溶液中的芳香族磺酸系由以下通式表示的一种二苯醚磺酸其中R1.R2.R3及R4系,各别独立的,氢原子或含5至20个碳原子之烷基但是R1.R2.R3及R4中至少一个系含5至20个碳原子之烷基,下标p及q系,各别独立的,0.1或2但是p+q系正数。7.如申请专利范围第6项之方法,其中该二苯醚磺酸系十二烷基(二苯醚)二磺酸。8.如申请专利范围第1项之方法,其中该光阻层系藉着喷射溶液于光阻层而与酸性水溶液接触。9.如申请专利范围第1项之方法,其中该光阻层系于室温下与酸性水溶液保持接触达一段长达1至90秒的时间。10.如申请专利范围第1项之方法,其中该酸性水溶液包含表面活性剂。11.如申请专利范围第10项之方法,其中该表面活性剂系N-辛基-2-啶酮。12.如申请专利范围第1项之方法,其中包含于该酸性水溶液中的酸之分子量为200以上。13.如申请专利范围第1项之方法,其中包含于该酸性水溶液中的酸系一种含氟化烷基磺酸之有机酸。 |
