| 主权项 |
1.一种光刻装置制造方法,包含之步骤为:-提供一个至少部分被辐射敏感材料层所覆盖之基板;-采用一辐射系统来提供一投影辐射束;-利用图案形成构件以将该投影束横切面图案化;-将该图案化之辐射束投射至该辐射敏感材料层之标靶部分上;以及-实施所望之第一与第二正交方向之线性加速度,以及绕垂直于组件一点上该第一与第二方向之轴的角加速度;其中实施该所望线性及角加速度之该步骤含下列各步骤:-决定该实施该所望之组件质量中心上加速度所需之该等定位力;-决定一矫正力,该矫正力在该第二方向之値成正比于该组件上该点第一方向速度及绕该垂直于第一和第二方向之轴该组件角速度两者;以及-将该等定位力及该矫正力之和施加至组件之质量中心。2.如申请专利范围第1项之光刻装置制造方法,其中施加该等定位力及该矫正力之和的步骤乃利用激励器之系统,并非全部激励器皆经质量中心作用,且其中激励器系统所施加该等力乃使其于该组件质量中心之和等于该等定位力与该矫正力之和。3.如申请专利范围第1或2项之光刻装置制造方法,其中尚含有决定一第二矫正力的步骤,该第二矫正力于该第二方向所具之値成正比于该绕该垂直于第一和第二方向之轴的该组件角加速度及组件质量中心与组件上该点间之第一方向距离,两者的乘积;且其中该施加步骤系施加定位力与矫正力之和。4.如申请专利范围第1或2项之光刻装置制造方法,其尚含决定一第三矫正力的步骤,该第三矫正力于第二方向所具之値成比例于该组件第一方向之加速度及绕该垂直于第一和第二方向之轴的该组件对预定位置之角位移两者的乘积;且其中该施加步骤系施加定位力与矫正力之和。5.如申请专利范围第3项之光刻装置制造方法,其尚含决定一第三矫正力的步骤,该第三矫正力于第二方向所具之値成比例于该组件第一方向之加速度及绕该垂直于第一和第二方向之轴的该组件对预定位置之角位移两者的乘积;且其中该施加步骤系施加定位力与矫正力之和。6.如申请专利范围第1或2项之光刻装置制造方法,其中该组件乃图案形成构件与其支承之组合,而该组件上该点系图案形成构件上投影束入射之区。7.如申请专利范围第1或2项之光刻装置制造方法,其中该组件乃基板与其支承之基板台的组合,而该组件上该点乃基板上图案化束入射之区。8.如申请专利范围第6项之光刻装置制造方法,其中第二方向平行于投影束或图案化束的方向。9.如申请专利范围第7项之光刻装置制造方法,其中第二方向平行于投影束或图形化束的方向。10.一种电脑可读取媒体,具有控制光刻投影装置之电脑程式,其中该电脑程式包含:-程式码构件,用以实施所望之第一和第二正交方向之线性加速度及绕垂直于组件一点上该第一和第二方向之轴的角加速度;其中该用以实施所望之线性及角加速度之程式码构件含有程式码构件以供:-决定于组件质量中心上实施该等所望之加速度所需之定位力;-决定一矫正力,该矫正力系在第二方向,其具之値成正比于该组件上一点之第一方向的速度及绕垂直于第一和第二方向之轴该组件的角速度;以及-控制一激励器系统,将定位力及矫正力之和施加至组件之质量中心。11.一种光刻投影装置,其包含:-一辐射系统,用以提供投影辐射束;-一支承结构,用以支承图案形成构件,该图案形成构件用以依据一所望图案将投影束图案化;-一基板台,用以夹承基板;-一投影系统,用以将图案化之束投影至基板之标靶部分上;-一控制系统,用以决定所需之力,以实施所需之第一和第二方向之线性加速度,以及所需之绕垂直于装置内移动式组件上一点之第一和第二方向之轴的角加速度;其中该控制系统含有:-用以决定实施该等所望之组件质量中心上加速度所需定位力的构件;-用以决定一矫正力的构件,该矫正力系于第二方向,其具之値成正比于组件该点上第一和第二方向之速度及绕垂直于第一和第二方向之轴该组件之角速度;-用以决定定位力及矫正力之和的构件;-一激励器系统,用以将该等力之和施加至该组件之质量中心。12.如申请专利范围第11项之光刻投影装置,其中该激励器系统乃一平面马达。图式简单说明:图1显示本发明一具体实例之光刻投影装置;图2显示以投影束扫描同时曝光之基板;以及图3显示一基板台上之基板。 |
