| 主权项 |
1.一种用以暴露一面板(120)至少一表面(118)之装置,特别是供印刷电路之面板为然,此装置包含:用以将至少一原图式及该面板(120)握持于一框架上之器具;一种光学系统,含一发出光束(I)之光源(112),处理器具用以处理该光束(I)以产生一均匀准直之光束(III),此光束就待暴露表面(118)而言具小于二度之平均入射角,并具偏离平均値小于正负百分之十的亮度均匀性,以及整形器具(158,160)使均匀准直之光束(III)转换成待暴露面板(120)表面(118)上均匀准直之光带(126),并含原图式在内,该均匀准直之光带(126)之长度(L126)不小于该待暴露表面(118)一边之长度(l118),该用以处理光束(1)之器具包含一反射器(116)及一统合准直器组合(151);位移器具(121),用以产生该光带(126)与该待暴露表面(118)两者间依方向(YIIYII')大致横越该光带(126)纵向(XIIXII')之相对位移;以及匹配器具用以将该光带(126)与该待暴露表面(118)间之相对位移速度与光带(126)之亮度及待暴露表面(118)之感光性相匹配。2.如申请专利范围第1项之装置,其中该反射器(116)包含一循环椭面之一部分而呈第一焦点(122')及第二焦点(124')。3.如申请专利范围第1项或第2项之装置,其中该统合准直器组合(151)包含:一第一光处理器单元(150)用以以一大致均匀方式分布光;及一呈现目标焦点(156')之第二光处理器单元(156),此第二光处理单元(156)系配置于该第一光处理器单元(150)之后,并设计不将光准直化。4.如申请专利范围第2项之装置,其中该统合准直器组合(151)包含:一第一光处理器单元(150)用以以一大致均匀方式分布光;及一呈现目标焦点(156')之第二光处理器单元(156),此第二光处理单元(156)系配置于该第一光处理器单元(50)之后,并设计不将光准直化;且其中该第一光处理器单元(150)配置于该反射器(116)之第二焦点(124')处,故该第一光处理器单元(150)用以将进入之光束(I)转换成均匀之输出光束(II)。5.如申请专利范围第4项之装置,其中该第一光处理器单元(150)配置于该第二光处理单元(156)之目标焦点(156')处,故第二单元(156)使进入其内之均匀光束(II)转换成均匀准直光束(III)。6.如申请专利范围第3项之装置,其中该第一光处理器单元(150)乃属具有三十至四十毫米范围曲度半径(R150)之柱式统合透镜(150')。7.如申请专利范围第3项之装置,其中该第二光处理器单元(156)乃属具有一百五十至二百毫米范围曲度半径(R156)之球面准直器透镜(156)。8.如申请专利范围第7项之装置,其中该统合准直器组合(151)另含:一第一蔽光器(152)配置于该第一光单元(150)附近及一第二蔽光器(154)配置于该第二光单元(156)附近。9.如申请专利范围第2项之装置,其中该光源(112)配置于该反射器(116)之第一焦点(122')处。10.如申请专利范围第1项或第2项之装置,其中,其另含至少一个分色镜(1171,1172,1173)。11.如申请专利范围第1项或第2项之装置,其中该整形器器具(158,160)含有一第一整形光性单元(158)及一第二整形光性单元(160),两单元次第配置于该统合准直器组合(151)之出口处。12.如申请专利范围第11项之装置,其中该第一整形光性单元系一散光镜(158),并为凸出的,并具第一曲度半径(R158)且该第二整形光性单元系一聚光镜(160),其为凹入的,并具第二曲度半径(R160)。13.如申请专利范围第12项之装置,其中该散光及聚光两镜(158,160)乃以间距(d)分离配置,并且该均匀准直光带(126)之长度(L126)为间距(d)及聚光和分光镜(158,160)曲度半径(R158,R160)之函数。14.如申请专利范围第1项或第2项之装置,其中该位移器具含有一平面镜(164),此镜可于由待暴露面板(120)表面(118)之轴线(XIIXII',YIIYII')所界定之平面中移动。15.一种用以暴露面板(20)至少一表面(18)之装置,特别是供印刷电路之面板为然,此装置包含:用以将至少一原图式及该面板(20)握持于一框架上之器具;一种光学系统,包含至少一个含光源(12)之灯箱(10)及一反射器(16),反射器含至少一第一抛物面(24)及一第二抛物面(22),第一抛物面具有二第一焦点(24')而第二抛物面具一第二焦点,该第一与第二两焦点位于光传播至待暴露表面(18)之轴线(ZIZI')上,光源(12)配置于第一焦点(24')处以于待暴露面板(20)表面(18)上产生一光带(26),并含该原图式,光带之平均入射角小于十五度,其亮度之均匀性以平均値为准偏离小于正负百分之十,该光带(26)之长度(L26)不小于该待暴露表面(18)之宽度(l18);位移器具,用以产生该光带(26)与待暴露表面(18)间以待暴露表面(18)纵向(YIYI')之相对位移,此方向大致横越该光带(26)之纵向(XIXI');以及匹配器具,用以将该光带(26)与该待暴露表面(18)间相对位移之速度与光带(26)亮度及待暴露表面(18)感光度相匹配。16.如申请专利范围第15项之装置,其中该第一抛物面(24)位于由轴线(YIYI',ZIZI')所界定并含传播轴线(ZIZI')之第一平面内,及第二抛物面(22)位于由轴线(XIXI',ZIZI')并含传播轴线(ZIZI')且大致横越第一平面之第二平面内。17.如申请专利范围第15或16项之装置,其中该反射器(16)本体包含两对称部分(16A,16B)。18.如申请专利范围第15项或第16项之装置,其中该反射器(16)另含一中央孔(16C)以利更换灯(12)。19.如申请专利范围第15项或第16项之装置,其中该光学系五个灯箱(10),对齐于方向(XIXI'),该方向大致横越扫描方向(YIYI')。20.如申请专利范围第19项之装置,其中各灯箱(10)可循光带之纵向(XIXI')相对彼此移动。21.如申请专利范围第15项或第16项之装置,其中该均匀准直光带(26;126)构成一四边形,其高度(H26;H126)在一百至一百五十毫米范围,长度(L26;L126)不小于待暴露表面(18,118)之宽度(l18;l118)。22.如申请专利范围第15项或第16项之装置,其中该光源(12;112)含一电性放电式灯(12;112)。23.如申请专利范围第1.2.15.或16项之装置,其中该光带(26;126)呈现小于或等于十五度之平均入射角。24.如申请专利范围第1.2.15.或16项之装置,其中该光带(26;126)呈现小于或等于二度之平均入射角。25.如申请专利范围第1.2.15.或16项之装置,其中该光源(12,112)含一中度弧电性放电式灯(12)。26.如申请专利范围第1.2.15.或16项之装置,其中该光源(12,112)含一短弧电性放电式灯(112)。27.如申请专利范围第1.2.15.或16项之装置,其中该装置另含校准器具(38,40),用以校准各独立光源(12)。28.如申请专利范围第27项之装置,其中该校准器具(38)可在每一光源(12)前移动。29.如申请专利范围第1.2.15.或16项之装置,其中该装置另含一光计感测器(138)用以测量光通量功率。30.如申请专利范围第1.2.15.或16项之装置,其中该匹配器具亦可使光带(26;126)与待暴露表面(18;118)间之相对位移速度在暴露期间改变。图式简单说明:.图1为本发明第一方面中暴露装置之透视图;.图2显示图1装置光线所循之路径;.图3为统合准直组合之透视图;.图4为图1装置顶视之略图;.图5为图4侧视之略图;.图6为一透视图显示位移器具;.图7为本发明第二方面中之灯箱图;.图8为图7灯箱于VIII-VIII之切面图;.图9为图7灯箱于IX-IX之切面图;.图10为自一五灯箱组合后方所见之透视图;.图11为图10五灯箱组合自前方所见之透视图;.图12为校准器具之透视图。 |
