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1.一种光照敏感性树脂组成物,其中包含: (A)100重量分之一种共聚物,其系经由共聚合下列成 分而得到:(a1)至少一种羧酸化合物,其系选自不饱 和羧酸与不饱和羧基酐,(a2)至少一种不饱和环氧 基化合物,其系选自由以下式(1)代表之单体组成物 : 其中R为氢原子或甲基基团,R1为具有1至4个碳原子 之烷基基团,且n为1至6之整数,及由以下式(2)代表 之单体: 其中R2为氢原子或甲基基团,p为1至6之整数,且q为1 至6之整数,且(a3)为除了上述(a1)及(a2)以外的烯烃 系不饱和化合物;及 (B)5至100重量分之1,2-重氮基化合物,其中共聚物( A)包含5至40wt%的组份单位源自羧酸化合物(a1),5至60 wt%的组份单位源自不饱和环氧基化合物(a2),及10至 80wt%的组份单位源自烯烃系不饱和化合物(a3),且1,2 -重氮基化合物(B)系选自1,2-苯并重氮基磺酸 酯、1,2-并重氮基磺酸酯、1,2-苯并重氮基 磺酸醯胺及1,2-并重氮基磺酸醯胺。2.一种生 产层间绝缘膜之方法,其中包含下列步骤: (1)制备层间分离膜受质,其具有自申请专利范围第 1项之光照敏感性树脂组成物形成的薄膜; (2)经由预先决定的图样光罩将此薄膜暴露照光; (3)使用硷显影剂将此暴露的薄膜显影以形成薄膜 图样;及 (4)于低于200℃之温度将薄膜图样加热。3.如申请 专利范围第2项之方法,其中层间绝缘膜系磁头记 录线圈的层间绝缘膜。4.如申请专利范围第1项之 光照敏感性树脂组成物,其系用于制备磁头纪录线 圈的层间绝缘膜。5.如申请专利范围第1项之光照 敏感性树脂组成物,其系用于形成磁头记录线圈用 之层间绝缘膜。 |
