发明名称 正型光阻组成物
摘要 本发明系提供一种于使用i射线之光蚀刻印刷法中,具有优良感度、粗密度之正型光阻组成物。其系为含有(A)硷可溶性树脂、(B)(b1)下记式(I)之化合物与(b2)例如(2-甲基-4-羟基-5-环己基苯基)-3,4-二羟基苯基甲烷之二叠氮酯化物之组成物。(式中,D为氢原子或二叠氮基磺醯基)
申请公布号 TW594396 申请公布日期 2004.06.21
申请号 TW091137040 申请日期 2002.12.23
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 萩原三雄;馆俊聪;丸山健治
分类号 G03F7/022;G03F7/038 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种正型光阻组成物,其系为含有(A)硷可溶性树 脂、(B)二叠氮酯化物所得之正型光阻组成物,其 特征为,该(B)成分系含有(b1)下记式(I)所示二叠 氮酯化物,与(b2)下记式(II)所示二叠氮酯化物(但 不包含(b1))者; (式中,D为独立之氢原子、或1,2-二叠氮基-5-磺 醯基,其中至少1个为1,2-二叠氮基-5-磺醯基) [式中,R1至R8各自独立为氢原子、卤素原子、碳数1 至6之烷基、碳数1至6之烷氧基、或碳数3至6之环 烷基;R9至R11各自独立为氢原子或碳数1至6之烷基;Q 为氢原子、碳数1至6之烷基、与R9键结形成碳数3 至6之环烷基,或下记式(III)所示残基 (式中,R12与R13各自独立为氢原子、卤素原子、碳 数1至6之烷基、碳数1至6之烷氧基,或碳数3至6之环 烷基,c为1至3之整数),D各自独立为氢原子、1,2- 二叠氮基-5-磺醯基,其中至少1个为1,2-二叠 氮基-5-磺醯基;a,b为1至3之整数;d为0至3之整数;n为0 至3之整数,其中,n=0时,Q为上记式(III)所示残基,或 与R9键结形成碳数3至6之环烷基]。2.如申请专利范 围第1项之正型光阻组成物,其尚含有(C)分子量1000 以下之具有苯酚性羟基之硷可溶性低分子化合物 。3.如申请专利范围第1或2项之正型光阻组成物, 其中(b2)系为下记式(IV) (式中,D、R1至R6.R12.R13与a至c具有与上记内容相同 之意义) 所示二叠氮酯化物。4.如申请专利范围第1或2项 之正型光阻组成物,其中于(B)成分中,(b1)与(b2)之混 合比例为对(b1)而言,(b2)为10至200重量%范围者。
地址 日本