| 主权项 |
1.一种感光性层合物,系于基板上介以含具有孤立 电子对原子层,设化学放大型正型抗蚀层之感光性 层合物,其特征为:该化学放大型正型抗蚀组成物 含(A)含(a1)羟基苯乙烯或-甲基羟基苯乙烯单元, 及(a2)羟基苯乙烯或-甲基羟基苯乙烯中羟基之 氢原子经低级烷氧基烷基取代之单元,藉酸之作用 使对之溶解度增大之树脂成分,(B)以活性光线照 射产生酸之酸产生剂,系对羟基35%之氢原子经1-乙 氧基乙基取代之质量平均分子量12,000.分散度1.2之 聚羟基苯乙烯18质量份,配合5质量份之该酸产生剂 所形成之膜,以2.38质量%之氢氧化四甲铵水溶液,于 23℃处理1分钟后,其膜减量在0.6奈米/秒以上之酸 产生剂,及(C)胺。2.如申请专利范围第1项之感光性 层合物,其中(A)成分每100质量份,含(B)成分0.5至30质 量份。3.如申请专利范围第1或2项之感光性层合物 ,其中(A)成分每100质量份,含(C)成分0.01至1.0质量份 。4.如申请专利范围第1项之感光性层合物,其中(A) 成分系(a1)羟基苯乙烯或-甲基羟基苯乙烯单元,( a2)羟基苯乙烯或-甲基羟基苯乙烯中羟基之氢原 子经低级烷氧基烷基取代之单元,及(a3)羟基苯乙 烯或-甲基羟基苯乙烯中羟基之氢原子经选自三 级丁氧基羰基、三级丁基、四氢喃基及四氢 喃基中之酸解离性溶解抑制基取代之单元所构成 之共聚物。5.如申请专利范围第1项之感光性层合 物,其中(B)成分系一般式 R1-SO2-C(N2)-SO2-R2 (式中R1及R2各系碳原子数3至10之直链或分枝烷基) 所表之重氮基甲烷系化合物。6.如申请专利范围 第5项之感光性层合物,其中一般式中R1及R2各系选 自异丁基、三级丁基及异丙基。7.如申请专利范 围第1项之感光性层合物,其中化学放大型正型抗 蚀组成物更含(D)羧酸,其对(A)成分100质量份之比例 系0.01至1.0质量份。8.如申请专利范围第1项之感光 性层合物,其中含具有孤立电子对原子之层,系氮 化钛、磷.矽酸玻璃、硼.磷.矽酸玻璃、氮化矽或 四氮化三矽之层。9.一种抗蚀图型之形成方法,其 特征为:使用如申请专利范围第1至8项中任一项之 感光性层合物,以图型状之活性光线照射抗蚀层, 后加热以后作显像。 |
